Photoresist domestik menerobos, dan monopoli perusahaan Jepang akhirnya melonggarkan

Fotoresist sebagai bahan habis pakai inti dari litografi manufaktur chip, terutama bahan kelas atas telah lama dimonopoli oleh raksasa Jepang dan Amerika, perusahaan asing sangat rahasia tentang bahan baku dan formula, dan lebih dari sembilan puluh persen dari fotoresis negara kita yang bergantung pada impor. Namun, baru -baru ini, telah sering terjadi keberhasilan di bidang fotoresis domestik - dari produksi massal lem tebal KRF hingga verifikasi lem imersi ARF, dari lokalisasi resin hingga terobosan bahan baku EUV, pertempuran terobosan teknologi yang sunyi namun perkasa telah memasuki area air yang dalam.

0040-09094 Kamar 200mm

Sebagai contoh, dalam panjang gelombang 248nm dari fotoresis KRF, perekat T150A Wuhan Taiziwei telah melewati verifikasi lini produksi 28nm SMIC dengan resolusi 120nm dan hasil 93,7%, menciptakan situasi baru dalam pembuatan litografi semikonduktor domestik.
Perekat KRF bahan baru Hengkun telah mencakup proses 7nm, dengan kapasitas produksi tahunan 500 ton untuk memenuhi permintaan 100.000 wafer, dan perluasan basis produksi ANHUI menandai perubahan kualitatif substitusi domestik dari laboratorium ke produksi massal skala besar.
Xuzhou Bokang telah menaklukkan teknologi fotoresis basah 14nm, dan memiliki kemampuan teknis ARF kering dan wet wet fotoresist, ARF keringnya dapat diterapkan pada 90nm/65nm/55nm node, dan ARF basah dapat diterapkan pada node 40nm/28nm, dan beraksi menguatkan ARF basah.
Di bidang yang lebih sulit dari 193nm ARF Photoresist, Nanda Optoelectronics telah menjadi pemecah permainan. Laju cacat perekat ARF kering dikontrol pada 0,01 pcs/cm², dan perekat terendam melengkapi formula, dan laju hasil meningkat dari kurang dari 40% menjadi 60% pada awalnya. Meskipun masih ada kesenjangan dengan tingkat hasil internasional sebesar 85%, terobosan ini telah memungkinkan lem ARF domestik untuk mencapai 30% penetrasi lokalisasi di jalur produksi penyimpanan Sungai Yangtze dan SMIC.

0020-42285 Plat, Blocker 8 "EC WXZ

Bahan-bahan baru Tongcheng telah memperkenalkan berbagai KRF resolusi tinggi, photoresist ARF dan produk lain yang akan diverifikasi dan disertifikasi di sisi klien satu demi satu, dan photoresist ARF-nya telah dijual, dan produksi diri pelarut fotoresis juga telah direalisasikan.
Otonomi fotoresis sama sekali tidak berarti satu titik terobosan . 50%dari biayanya terkonsentrasi dalam resin, dan lini produksi massal 100 ton 800 juta waktu dan ruang akan meningkatkan kemurnian resin menjadi 99,999%, dan pengotor logam akan kurang dari 1PPB, yang akan secara langsung mengurangi biaya domestik hingga 20%.

Dalam tautan pelarut hulu, pelarut PM elektronik Yida menyumbang lebih dari 40% dari pasar global, memecahkan monopoli Kanto Chemical Jepang, dan bekerja sama dengan Nanda Optoelectronics untuk mengembangkan reagen pendukung, sehingga fotoresis ditingkatkan dari produk tunggal ke solusi sistem.
Tentu saja, perlu dilihat bahwa ia masih lebih dari 15 tahun di belakang dunia, dan saat ini, bahan-bahan baru Jiuri telah mengatasi teknologi produksi asam yang diinduksi foto, bahan baku inti dari fotoresis EUV, memecahkan monopoli 20 tahun Jepang, dan meletakkan dasar untuk peningkatan kinerja fotoresis, tetapi proses debugging peralatan yang cocok dengan peralatan yang sulit adalah peralatan yang sulit.
Fluktuasi hasil perekat imersi ARFI memaksa FAB untuk menanggung biaya lebih dari 10 juta yuan untuk verifikasi tunggal, dan siklus sertifikasi pelanggan selama 18-24 bulan. Pada saat yang sama, situasi saat ini 30% dari resin kelas atas yang mengandalkan impor Jepang menunjukkan bahwa keamanan rantai pasokan masih digantung tinggi.

Di pasar photoresist global, posisi monopoli perusahaan Jepang dan Amerika masih solid, dan JSR Jepang, Tokyo Oika, Shin-Etsu Chemical dan Fujifilm menempati lebih dari 70% pangsa pasar global.
Namun, prospek pembangunan photoresist domestik masih luas. Dengan perkembangan yang cepat dari teknologi yang muncul seperti 5G, kecerdasan buatan, dan Internet of Things, permintaan chip semikonduktor terus tumbuh, yang akan mendorong pasar fotoresis untuk berkembang lebih lanjut.

Kesimpulan

Atas dasar inovasi teknologi dan ekspansi kapasitas, perusahaan domestik diperkirakan akan lebih meningkatkan pangsa pasar mereka, menempati posisi yang lebih penting di pasar photoresist global, dan mempromosikan industri semikonduktor negara kita untuk bergerak menuju pengembangan mandiri dan terkontrol dan berkualitas tinggi berdasarkan keunggulan biaya dan keunggulan layanan lokal.