Metode Pelapisan Apa yang Dapat Menumbuhkan Lapisan Tipis Kristal Tunggal?

Apa perbedaan antara peralatan CVD, PVD, dan epitaxial?

Kategori proses CVD, PVD dan epitaxial

CVD,PVD,?
CVD: LPCVD, APCVD, SACVD, PECVD, HDPCVD, FCVD, MOCVD, dll.
PVD: Penguapan berkas elektron, sputtering magnetron, PLD (deposisi laser berdenyut), dll.

Epitaksi: Epitaksi berkas molekuler MBE, epitaksi fase gas VPE, epitaksi fase cair LPE, epitaksi fase padat SPE, dll.

Di antara semuanya, CVD, PVD, dan epitaksi pada prinsipnya serupa, dan ada banyak cara untuk mengklasifikasikannya, dan di atas adalah metode klasifikasi saya.

Mekanisme Pembentuk FilmPenyakit kardiovaskular, penyakit kardiovaskularDanEpitaksial?

Seperti yang terlihat pada gambar di atas, tidak mengherankan jika ketiga metode pengendapan film tipis di atas adalah sebagai berikut:

Mode pertumbuhan lapis demi lapis 2DDalam metode pelapisan ini, pertumbuhan lapisan tipis dilakukan lapis demi lapis, dan setiap lapisan atom atau molekul menutupi seluruh permukaan wafer sebelum lapisan berikutnya dimulai. Mode pertumbuhan ini dapat menghasilkan permukaan film yang sangat datar, seperti struktur superlattice.

Pertumbuhan pulau 3D (Volmer-Weber)

Dalam mode ini, pertumbuhan film tidak lagi lapis demi lapis, melainkan pembentukan pulau-pulau terputus-putus di beberapa area permukaan wafer yang terlokalisasi, yang secara bertahap bertambah dan akhirnya menutupi seluruh wafer. Gaya interaksi antara film yang dihasilkan dan substrat lemah, dan energi bebas permukaan film besar.

Pertumbuhan mode campuran Dalam mode pertumbuhan ini

Film tersebut awalnya akan tumbuh lapis demi lapis selama jangka waktu tertentu, dan ketika mencapai ketebalan tertentu, karena akumulasi tekanan, film tersebut mulai membentuk struktur seperti pulau. Secara umum, metode yang dapat menumbuhkan film tipis kristal tunggal meliputi epitaksi berkas molekuler MBE, epitaksi fase gas VPE, epitaksi fase cair LPE, epitaksi fase padat SPE, MOCVD, PLD (pulsed laser deposition). Mode pertumbuhan lapis demi lapis 2D memudahkan pembentukan monokristal, sementara CVD dan PVD dapat digunakan untuk menghasilkan kristal polikristalin atau amorf dengan menyesuaikan kondisi proses.